Krótkie wprowadzenie do technologii HIPIMS

Technologia rozpylania magnetronowego jest szeroko stosowana w dziedzinie polewy powłokowej. Powszechnie stosuje się go zarówno do aplikacji powłok dekoracyjnych, jak i do nakładania powłok narzędziowych. Jednak wciąż istnieje wiele ograniczeń technologii rozpylania magnetronowego. Na przykład, gęstość mocy celów rozpylania magnetronowego zależy od docelowego obciążenia termicznego. Przy dużym prądzie rozpylania nadmierne dodatnie jony bombardują cel, co może spowodować przegrzanie i spalenie celu, ponadto energia rozpylania jest ograniczona, a szybkość jonizacji metalu nie jest wysoka.

W ostatnich latach technologia rozpylania magnetronowego o dużej mocy (HiPIMS) została opracowana w kraju i za granicą, co znacznie osłabia te ograniczenia. Moc szczytowa HiPIMS jest około 100 razy większa niż w przypadku zwykłego rozpylania magnetronowego, a materiał rozpylania ma bardzo wysoki współczynnik jonizacji, a także ta wysoko zjonizowana wiązka nie zawiera dużych cząstek, dlatego HiPIMS można łatwo uzyskać wysokiej jakości warstwę folii .

Ponieważ czas działania impulsu wynosi kilkaset mikrosekund, średnia moc HiPIMS jest równa wartości zwykłego rozpylania magnetronowego, więc zapotrzebowanie na chłodzenie tarczy magnetronowej nie zwiększa się. Chociaż chwilowa moc rozpylania magnetronowego o dużej mocy jest bardzo wysoka, jego średnia moc nie jest zbyt wysoka, więc może być szeroko promowana.