Porównanie zasad przetwarzania wiązki elektronów i technologii przetwarzania wiązką jonową

Zasada   porównanie technologii przetwarzania wiązki elektronów i technologii przetwarzania wiązki jonowej

Przetwarzanie wiązki elektronów odbywa się w warunkach próżni, przy użyciu wysokiej gęstości energii wiązki elektronów, po skupieniu się na uderzeniu z dużą prędkością do minimalnej powierzchni, w bardzo krótkim czasie (w ułamku mikrosekund), większość jej energii w energię cieplną , powodują, że uderzenie materiału obrabianego osiąga temperaturę przekraczającą kilka tysięcy stopni Celsjusza, a tym samym powoduje częściowe stopienie i odparowanie materiałów przez układ próżniowy. Różne cele przetwarzania można osiągnąć kontrolując gęstość energii wiązki elektronów i czas wtrysku energii. Obróbkę cieplną wiązką elektronów można przeprowadzić, jeśli materiał jest ogrzewany lokalnie. Spawanie wiązką elektronów można przeprowadzić przez częściowe stopienie materiału. Zwiększając gęstość energii wiązki elektronów, materiał topi się i zgazowuje, dzięki czemu można go wykrawać, ciąć i przetwarzać. Litografia wiązki elektronów może być stosowana do wywoływania zmian chemicznych, gdy wiązka elektronów o niskiej gęstości energii jest wykorzystywana do bombardowania polimerowych materiałów światłoczułych.

Przetwarzanie wiązki jonów jest podobne do przetwarzania wiązki elektronów, ponieważ wiązka jonów generowana przez źródło jonów jest przyspieszana, aby skupić się w warunkach próżni, powodując uderzenie jej w powierzchnię przedmiotu obrabianego. Różne są jony naładowane dodatnio, a ich jakość jest tysiące, dziesiątki tysięcy razy większa niż elektronika, na przykład jakość jonu argonowego jest 72000 razy wyższa niż elektronu, więc po przyspieszeniu jonu do dużej prędkości wiązka elektronowa ma większy wpływ energia kinetyczna polega raczej na energii uderzenia mikromechanicznego, a nie przetwarzana przez energię kinetyczną na energię cieplną. Fizyczną podstawą przetwarzania wiązki jonów jest efekt uderzenia, rozpylanie i efekt wtrysku, gdy wiązka jonów uderza w powierzchnię materiału. Gdy jony o pewnej energii kinetycznej przechylą się na powierzchnię przedmiotu obrabianego, atomy na powierzchni mogą zostać wybite. Jeśli przedmiot jest bezpośrednio używany jako cel bombardowania jonowego, powierzchnia przedmiotu obrabianego zostanie wytrawiona jonami. Jeśli przedmiot obrabiany zostanie umieszczony w pobliżu materiału docelowego, atomy materiału docelowego będą rozpryskiwać się na powierzchni przedmiotu obrabianego oraz będą osadzane i adsorbowane przez napylanie, tak że powierzchnia przedmiotu obrabianego zostanie pokryta powłoką atomów materiału docelowego. Jeśli energia jonów jest wystarczająco duża, aby uderzyć pionowo w powierzchnię przedmiotu obrabianego, jony wiercą w powierzchni przedmiotu, co jest efektem implantacji jonów.

IKS PVD Maszyna do powlekania optycznego wiązką elektronów, IKS-OPT2700, Więcej informacji, zapraszamy do kontaktu iks.pvd@foxmail.com