Prąd łuku, temperatura, napięcie polaryzacji i siła wiązania
Aug 19, 2019| Prąd rc, temperatura, napięcie polaryzacji i siła wiązania
1. Prąd łuku
Kiedy prąd łuku jest niski, liczba jonów jest mała, ilość energii jest niska, szybkość zarodkowania jest niska, a struktura nie jest gęsta. Aby pokryć całą matrycę, atomy warstwy folii muszą być rozproszone w długim zakresie.
Wraz ze wzrostem prądu łuku rośnie liczba jonów w warstwie membranowej, wzrasta energia i rośnie gęstość tkanki. Atomy błonowe nie potrzebują dyfuzji dalekiego zasięgu do pokrycia całej matrycy, a ziarna błonki są małe, a siła wiązania z atomami na powierzchni matrycy jest wysoka
Prąd łuku nadal rośnie, na powierzchni filmu pojawia się zbyt wiele kropelek cieczy, wytrzymałość filmu, twardość spada, spada przyczepność filmu .
Uwaga: tak zwany tutaj rozmiar prądu łuku powinien być oparty na prądzie łuku dopasowanym do urządzenia jako odniesienia, pola magnetycznego, chłodzenia, układu docelowego itp., Odpowiedni dopasowany prąd nie jest taki sam. Nie ma odpowiednich szczegółowych informacji, a podane wartości mają jedynie charakter informacyjny.
2. Temperatura
Gdy temperatura osadzania jest niska, aktywność atomowa warstwy filmu jest niska, szybkość zarodkowania jest niska, zwartość jest niska, wnęka skurczowa jest większa, naprężenie wewnętrzne jest słabe, przyczepność jest niska.
Wraz ze wzrostem temperatury zwiększa się aktywność atomowa warstwy filmowej, zdolność dyfuzji jest silna, szybkość zarodkowania jest zwiększona, gęstość jest wysoka, wnęka skurczowa jest niewielka, naprężenie wewnętrzne jest niskie, siła wiązania jest wysoka.
Temperatura nadal rośnie, przekraczając temperaturę odpuszczania matrycy. Gdy twardość matrycy spada, nie może ona odgrywać silnej roli wspierającej na folii, co prowadzi do zmniejszenia siły przyczepności folii.
Pytanie: jeśli temperatura temperowania matrycy jest wystarczająco wysoka, czy siła wiązania będzie nadal rosła?
3. Odchylenie
Wraz ze wzrostem napięcia polaryzacji osadzone jony mają silny efekt bombardowania atomów na powierzchni podłoża, tworząc warstwę pseudo-dyfuzyjną i poprawiając przyczepność filmu. W procesie formowania filmu ciągłe bombardowanie filmu przez cząstki o wysokiej energii zmniejsza rozmiar ziarna filmu i zwiększa gęstość zarodkowania, co sprawia, że film nadal tworzy film w stosunkowo cienkich warunkach, poprawiając w ten sposób siłę wiązania .
Nadmierne napięcie polaryzacji doprowadzi do przegrzania podłoża, nadmiernego naprężenia w styku z podłożem, gdy osadzają się jony wysokoenergetyczne, a działanie przeciwrozpryskowe zmniejszy siłę wiązania folii.
IKS PVD, Specjalizuje się w technologii powlekania próżniowego PVD od 13 lat, każde zapytanie, kontakt powitalny: iks.pvd@foxmail.com
