Cztery etapy procesu technologii PVD
Mar 02, 2022| Cztery etapy procesu technologii PVD
(1) Czyszczenie obrabianego przedmiotu: zasilanie prądem stałym jest włączone, wyładowanie żarowe argonu jest jonem argonu, jon argonu bombarduje powierzchnię obrabianego przedmiotu, a cząstki i brud na powierzchni obrabianego przedmiotu są rozpryskiwane;
(2) Zgazowanie galwaniczne: to znaczy po podłączeniu prądu przemiennego, poszycie odparowuje i odparowuje.
(3) migracja jonów galwanicznych: atomy, cząsteczki lub jony dostarczane przez źródło zgazowania są pędzone do przedmiotu obrabianego z dużą prędkością po zderzeniu i polu elektrycznym pod wysokim ciśnieniem;
(4) osadzanie się atomów, cząsteczek lub jonów na podłożu: jony odparowujące na powierzchni przedmiotu obrabianego przekraczają liczbę jonów odprysków i stopniowo gromadzą się, tworząc warstwę powłoki mocno przylegającą do powierzchni przedmiotu obrabianego.
Po jonizacji cząstek jonizacji materiał odparowujący ma trzy tysiące do energii kinetycznej pięciu tysięcy elektronowoltów, artefakty bombardowania z dużą prędkością, nie tylko prędkość osadu jest szybka i zdolna do penetracji powierzchni, tworząc głęboko w warstwie dyfuzji matrycy, głębokość dyfuzji interfejsu powlekania jonowego wynosiłaby od czterech do pięciu mikronów, to znaczy, niż zwykła głębokość dyfuzji powłoki próżniowej dziesiątki razy, nawet sto razy, więc przyklejają się do siebie bardzo mocno.
Firma IKS PVD, maszyna do powlekania dekoracyjnego, maszyna do powlekania narzędzi, maszyna do powlekania DLC, maszyna do powlekania optycznego, linia do powlekania próżniowego PVD, dostępny jest projekt "pod klucz". Skontaktuj się z nami teraz, E-mail:iks.pvd@foxmail.com