Wpływ parametrów procesu rozpylania magnetronowego: ujemne odchylenie matrycy
Sep 10, 2024| Wpływ parametrów procesu rozpylania magnetronowego: ujemne odchylenie matrycy
Ujemne odchylenie pozwala jonom bombardować rosnącą warstwę pod działaniem przyspieszającego pola elektrycznego. Na mikrostrukturę i właściwości mechaniczne powłok czwartorzędowych (Cr, Ti, Al) N można wpływać zmieniając energię i ilość jonów docierających do powierzchni podłoża poprzez regulację ujemnego nastawienia podłoża. Naukowcy odkryli, że siła wiązania powłoki (Cr, Ti, Al) N na podłożu najpierw wzrosła, a następnie spadła wraz ze wzrostem ujemnego obciążenia podłoża. Dzieje się tak, ponieważ wraz ze wzrostem ujemnego ciśnienia polaryzacji wzrasta energia dostarczana do folii w wyniku bombardowania jonami, co zwiększa przepuszczalność atomów folii do powierzchni podłoża, a tym samym tworzy silną siłę wiązania pomiędzy folią a podłożem. Jednakże, gdy ujemne odchylenie ulegnie dalszemu zwiększeniu, bombardowanie folii wysokoenergetycznymi jonami spowoduje powstanie dużych naprężeń szczątkowych w powłoce, co osłabi przyczepność folii do matrycy. Naukowcy odkryli również, że odchylenie ujemne wpływa głównie na odporność na zużycie powłok (Cr, Ti, Al) N poprzez zmianę siły wiązania podłoża folii. Im lepsza siła wiązania powłoki (Cr, Ti, Al) N z podłożem, tym mniejsza szybkość zużycia i dłuższy czas odporności na zużycie.
Firma IKS PVD, maszyna do powlekania dekoracyjnego, maszyna do powlekania narzędzi, maszyna do powlekania DLC, maszyna do powlekania optycznego, linia do powlekania próżniowego PVD, dostępny projekt pod klucz. Skontaktuj się z nami teraz. E-mail: iks.pvd@foxmail.com