Wprowadzenie do technologii fizycznego osadzania z fazy gazowej (PVD) półprzewodników

Wprowadzenie do technologii fizycznego osadzania z fazy gazowej (PVD) półprzewodników

W produkcji półprzewodników powlekanie cienkowarstwowe jest jednym z podstawowych procesów, bezpośrednio wpływającym na wydajność elektryczną, niezawodność i integrację urządzeń. Fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD) i chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD), jako dwie główne technologie, spełniły wymagania dotyczące przygotowania cienkowarstwowych urządzeń półprzewodnikowych na różnych poziomach, wykazując odpowiednie zalety

Firma IKS PVD, maszyna do powlekania dekoracyjnego, maszyna do powlekania narzędzi, maszyna do powlekania DLC, maszyna do powlekania optycznego, linia do powlekania próżniowego PVD, dostępny jest projekt-pod klucz. Skontaktuj się z nami teraz,-e-mail: iks.pvd@foxmail.com