Proces PECVD
Jun 21, 2023| Chemiczne osadzanie z fazy gazowej wspomagane plazmą (PECVD) jest rodzajem chemicznego osadzania z fazy gazowej, a jego najwybitniejszą zaletą jest niska temperatura osadzania. Folie osadzone PECVD mają doskonałe właściwości elektryczne, dobrą przyczepność do podłoża i doskonałe pokrycie stopni, co czyni je szeroko stosowanymi w VLSI, urządzeniach optoelektronicznych, MEMS i innych dziedzinach.
Firma IKS PVD, maszyna do powlekania dekoracyjnego, maszyna do powlekania narzędzi, maszyna do powlekania DLC, maszyna do powlekania optycznego, linia do powlekania próżniowego PVD, projekt pod klucz jest dostępny. Skontaktuj się z nami teraz, e-mail: iks.pvd@foxmail.com
Wyślij zapytanie